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?? 英特尔总监表示,这种三维结构使芯片制造“降低对最小特征尺寸的依赖,因为不仅能在平面上实现高密度,还能通过垂直堆叠达成”,因此高数值孔径光刻机在先进制程中的重要性“将低于当前 EUV 设备在 7nm 及更先进技术节点中的关键地位”。Ó×À±½·H1³ß´ç
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